কেন আমি একটি পিভিডি হ্যাঙ্গিং ফিক্সচার বেছে নেব?

PVD ঝুলন্ত ফিক্সচারভৌত বাষ্প জমা (PVD) প্রক্রিয়ায় ব্যবহৃত একটি পণ্য, একটি পদ্ধতি যা একটি পৃষ্ঠের উপর একটি পাতলা ফিল্ম তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়। এটি এমন একটি ডিভাইস যা PVD প্রক্রিয়া চলাকালীন অংশগুলিকে ধরে রাখতে এবং ঘোরানোর জন্য ডিজাইন করা হয়েছে, নিশ্চিত করে যে অংশের সমস্ত দিক সমানভাবে লেপা। PVD হ্যাঙ্গিং ফিক্সচার সাধারণত স্বয়ংচালিত, মহাকাশ, ইলেকট্রনিক্স এবং চিকিৎসা সরঞ্জামের মতো শিল্পে ব্যবহৃত হয়।

কেন পিভিডি আবরণে পিভিডি হ্যাঙ্গিং ফিক্সচার প্রয়োজনীয়?

PVD আবরণ প্রক্রিয়ার জন্য একটি অংশকে প্রলিপ্ত করার সময় ঘোরানো প্রয়োজন। এটি নিশ্চিত করে যে লেপটি অংশের পুরো পৃষ্ঠ জুড়ে সমানভাবে প্রয়োগ করা হয়েছে। একটি PVD হ্যাঙ্গিং ফিক্সচার ছাড়া, অংশটি একটি সামঞ্জস্যপূর্ণ হারে ঘোরানো হয়েছে তা নিশ্চিত করা কঠিন হয়ে পড়ে, যার ফলে একটি অসম আবরণ তৈরি হয়, যার ফলে খোসা ছাড়ানো বা ফ্ল্যাকিংয়ের মতো ত্রুটি হতে পারে।

পিভিডি হ্যাঙ্গিং ফিক্সচারগুলি কী কী উপকরণ দিয়ে তৈরি?

PVD ঝুলন্ত ফিক্সচারসাধারণত এমন উপকরণ দিয়ে তৈরি হয় যা উচ্চ তাপমাত্রা এবং পিভিডি আবরণ প্রক্রিয়ার রাসায়নিক পরিবেশ সহ্য করতে পারে। স্টেইনলেস স্টিল, টাইটানিয়াম এবং টাংস্টেন কার্বাইডের মতো উপাদানগুলি সাধারণত PVD ঝুলন্ত ফিক্সচার নির্মাণে ব্যবহৃত হয়।

আপনি কিভাবে সঠিক PVD ঝুলন্ত ফিক্সচার চয়ন করবেন?

সঠিক PVD হ্যাঙ্গিং ফিক্সচার নির্বাচন করা বিভিন্ন কারণের উপর নির্ভর করে যেমন প্রলিপ্ত অংশের আকার এবং আকৃতি, অংশের ওজন এবং PVD আবরণ প্রয়োগ করা হচ্ছে। একটি PVD হ্যাঙ্গিং ফিক্সচার বাছাই করা গুরুত্বপূর্ণ যা প্রলিপ্ত অংশের সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ এবং পুরো আবরণ প্রক্রিয়া জুড়ে অংশটিকে নিরাপদে ধরে রাখতে পারে।

একটি PVD হ্যাঙ্গিং ফিক্সচার ব্যবহার করার সুবিধা কি কি?

একটি PVD হ্যাঙ্গিং ফিক্সচার ব্যবহার করা নিশ্চিত করে যে লেপটি অংশের পুরো পৃষ্ঠ জুড়ে সমানভাবে প্রয়োগ করা হয়েছে। এটি একটি উচ্চ-মানের, টেকসই আবরণ তৈরি করে যা পরিধান এবং ক্ষয় প্রতিরোধী। উপরন্তু, একটি PVD হ্যাঙ্গিং ফিক্সচার ব্যবহার করে ঘূর্ণন প্রক্রিয়া স্বয়ংক্রিয় করে সময় এবং শ্রম বাঁচায়, আরও বেশি উত্পাদনশীলতা এবং দক্ষতার জন্য অনুমতি দেয়।

কিভাবে একটি PVD ঝুলন্ত ফিক্সচার বজায় রাখা এবং যত্ন?

রক্ষণাবেক্ষণ এবং যত্নের জন্য কPVD ঝুলন্ত ফিক্সচার, কোনো অবশিষ্ট আবরণ উপাদান অপসারণ করার জন্য এটি নিয়মিত পরিষ্কার করা গুরুত্বপূর্ণ। পরিধান বা ক্ষতির লক্ষণগুলির জন্য ফিক্সচারটি পরিদর্শন করা এবং প্রয়োজন অনুসারে কোনও জীর্ণ বা ক্ষতিগ্রস্থ অংশ প্রতিস্থাপন করাও গুরুত্বপূর্ণ।

উপসংহার

উপসংহারে, PVD আবরণ প্রক্রিয়ার অংশগুলিতে একটি উচ্চ-মানের, টেকসই আবরণ অর্জনের জন্য একটি PVD ঝুলন্ত ফিক্সচার অপরিহার্য। সঠিক PVD হ্যাঙ্গিং ফিক্সচার নির্বাচন করে এবং সঠিকভাবে রক্ষণাবেক্ষণ করে, ব্যবসাগুলি নিশ্চিত করতে পারে যে তাদের অংশগুলি সমানভাবে এবং দক্ষতার সাথে প্রলেপিত হয়েছে, যার ফলে আরও বেশি উত্পাদনশীলতা এবং আরও ভাল সামগ্রিক কার্যকারিতা রয়েছে।

ডংগুয়ান ফুচেংক্সিন কমিউনিকেশন টেকনোলজি কোং, লিমিটেড পিভিডি হ্যাঙ্গিং ফিক্সচারের একটি নেতৃস্থানীয় প্রস্তুতকারক। আমরা স্বয়ংচালিত, মহাকাশ, ইলেকট্রনিক্স, এবং চিকিৎসা সরঞ্জাম শিল্পের জন্য উচ্চ-মানের ফিক্সচারের নকশা এবং উৎপাদনে বিশেষজ্ঞ। আমাদের পণ্যগুলি সর্বোত্তম উপকরণ থেকে তৈরি করা হয়েছে এবং সবচেয়ে চাহিদাপূর্ণ অবস্থা সহ্য করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। আজ আমাদের সাথে যোগাযোগ করুনLei.wang@dgfcd.com.cnআমাদের পণ্য এবং পরিষেবা সম্পর্কে আরও জানতে।

রেফারেন্স

1. এইচ. ঝাং, ওয়াই জিয়াং, কে. ওয়াং, এফ. লিউ। (2021)। "হাইব্রিড চিকিত্সা দ্বারা ক্রোমাইজড এবং নাইট্রোজেনাইজড 316L স্টেইনলেস স্টিলের প্রস্তুতি এবং বৈশিষ্ট্যের উপর অধ্যয়ন," ​​সারফেস এবং লেপ প্রযুক্তি, ভলিউম। 409, পৃ. 127066।

2. এল. ঝাং, ডব্লিউ. ওয়েই, ডি. সান, এক্স. ঝাং। (2020)। "আর্ক আয়ন কলাই দ্বারা জমা Ti-Al-N আবরণ বৈশিষ্ট্যের উপর চৌম্বক ক্ষেত্রের প্রভাব," পৃষ্ঠ এবং আবরণ প্রযুক্তি, ভলিউম. 388, পৃ. 125659।

3. সি.-এস. লি, Y.-R. চেন, সি.-সি. চ্যাং। (2019)। "প্লাজমা নিমজ্জন আয়ন ইমপ্লান্টেশন দ্বারা Ti6Al4V এর সারফেস পরিবর্তন এবং Si-ধারণ হাইড্রোক্স্যাপাটাইট আবরণের সাথে জমা করা," সারফেস এবং লেপ প্রযুক্তি, ভলিউম। 357, পৃ. 150-156।

4. S. Wang, X. Pan, Y. Liu, J. Li, Y. Tao. (2018)। "লেজার ক্ল্যাডিং Ti6Al4V/GDZ100 ব্রেজিং জয়েন্টগুলিতে বন্ডিং ইন্টারফেসের গুণমান উন্নত করতে লেজার প্রসেসিং পরামিতিগুলি অপ্টিমাইজ করা," সারফেস এবং লেপ প্রযুক্তি, ভলিউম। 334, পৃষ্ঠা 29-36।

5. J. Li, G. Chen, P. Lv, W. Zhang, Y. Zhang. (2017)। "Ti6Al4V-তে Ti(C, N)/TiB2 মাল্টিলেয়ার আবরণের উচ্চ-তাপমাত্রার অক্সিডেশন প্রতিরোধ," সারফেস এবং লেপ প্রযুক্তি, ভলিউম। 316, পৃষ্ঠা 215-219।

6. S. He, T. Wang, H. Huang, W. Wu, Z. Liu. (2016)। "প্লাজমা বর্ধিত রাসায়নিক বাষ্প জমা দ্বারা জমা Al2O3 ছায়াছবির মাইক্রোস্ট্রাকচার এবং যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্যের উপর সাবস্ট্রেট স্পুটারিংয়ের প্রভাব," সারফেস এবং লেপ প্রযুক্তি, ভলিউম। 292, পৃষ্ঠা 92-97।

7. P. Wang, L. Zhang, J. Li, C. Xu, K. Zhang, J. Liu. (2015)। "বায়োইনস্পায়েড সারফেস মাইক্রোস্ট্রাকচার সহ হীরা-সদৃশ কার্বন ফিল্মের ট্রাইবোলজিক্যাল বৈশিষ্ট্যের তদন্ত," সারফেস অ্যান্ড লেপ প্রযুক্তি, ভলিউম। 275, পৃষ্ঠা 217-225।

8. Y. Luo, D. Cheng, H. Chen, B. Liu, J. Pan, L. Wang, W. Zhang. (2014)। "প্রি-অক্সিডেশন ট্রিটমেন্টের মাধ্যমে ন্যানোক্রিস্টালাইন নিকেল আবরণের জারা আচরণকে উন্নত করা," সারফেস এবং লেপ প্রযুক্তি, ভলিউম। 242, পৃষ্ঠা 22-27।

9. H. Liu, L. Dong, Y. Song, L. Cheng, J. Zhang, C. Ruan. (2013)। "সংযোগ এলাকা গণনা এবং জটিল পৃষ্ঠতলের NC মেশিনে নাকাল-তত্ত্ব-ভিত্তিক টুল পথ পরিকল্পনা পদ্ধতির প্রয়োগ," উন্নত উত্পাদন প্রযুক্তির আন্তর্জাতিক জার্নাল, ভলিউম। 68, পৃ. 397-413।

10. জে. সং, এইচ. লিন, এক্স. কুই। (2012)। "বিভিন্ন বায়ুমণ্ডলে নিরাকার a-C আবরণের ট্রাইবোলজিক্যাল বৈশিষ্ট্যের উপর বৈদ্যুতিক ঋণাত্মকতার প্রভাব," সারফেস এবং আবরণ প্রযুক্তি, ভলিউম। 206, পৃ. 3477-3482।